Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.
Optical and X-Ray Characterization
Optical and X-Ray Characterization
Dieser Kurs ist Teil von Spezialisierung „Semiconductor Characterization“
Dozent: Trevor Thornton
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Stufe Mittel
Empfohlene Erfahrung
4 Stunden zu vervollständigen
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Was Sie lernen werden
Describe the use of light to measure the thickness and refractive index of thin transparent films.
Explain how light is absorbed and emitted by semiconductors.
Explain the advantages and limitations of optical and X-ray characterization.
Kompetenzen, die Sie erwerben
- Kategorie: Analytical Chemistry
- Kategorie: Semiconductors
- Kategorie: Laboratory Testing
- Kategorie: Laboratory Techniques
- Kategorie: Laboratory Equipment
- Kategorie: Analytical Testing
- Kategorie: Materials science
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Unterrichtet in Englisch
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KN
Geprüft am 8. Mai 2024
Quick introduction and review of important topics. I wish if more such courses are introduced.
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